ITO靶材，全称氧化铟锡靶材，是一种专门用于磁控溅射镀膜的材料。氧化铟锡（简称ITO）是一种n型半导体材料，通常由90%的氧化铟（In₂O₃）和10%的氧化锡（SnO₂）组成。这种材料以其的透明度和导电性，成为现代电子工业中不可或缺的组成部分。无论是智能手机的触摸屏、平板电脑的显示面板，还是太阳能电池的透明电极，ITO靶材都以其独特的功能支撑着这些设备的运行。

氧化铟是一种宽禁带半导体，具有良好的光学透明性，而氧化锡的引入则增强了材料的导电性。这种成分结构使得ITO材料在保证高透光率的同时也具有低电阻率，兼具光学和电学性能。ITO靶材的这一独特特性使其成为透明导电膜的主流材料，尤其适用于要求高透明度的光电设备和显示技术。

ITO靶材的应用主要集中在以下几个领域：

显示技术：ITO薄膜用于LCD、OLED等显示器件中的透明电极，确保设备既能透光显示图像，又能导电传输信号。

触控技术：电容式和电阻式触摸屏使用ITO作为电极材料，其透明性和导电性决定了触控设备的灵敏度和视觉效果。

光伏技术：ITO薄膜作为太阳能电池的前电极材料，具有高透明性，能够保证光线有效进入吸收层，从而提升光电转换效率。

智能建筑与汽车应用：智能窗、加热膜等系统中也使用ITO薄膜，其良好的导电性和耐环境稳定性使其在智能玻璃和汽车加热玻璃等应用中表现出色。

铟回收的难点在于其“稀”与“散”。一部废旧手机含铟量不足0.02克，且深嵌于多层结构的液晶面板中，与玻璃、塑料、其他金属紧密复合。传统的物理拆解难以分离，湿法冶金（酸/碱浸出）则面临成分复杂、杂质干扰、易产生二次污染等严峻挑战。